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                半导体掩模版赛道龙头龙图光罩成功上市 近3年净利复合增长率超40%

                来源:金年会·诚信至上金字招牌  更新时间:2024-09-01 16:52:40


                8月6日,半导深圳市龙图光罩股份有限公司(以下简称“龙图光罩”或公司)上市,体掩股票发行价格为18.50元/股,模版发行市盈率为30.20倍。赛道上市

                招股书「显示,龙头龙图利复龙图光罩是光罩一家专注于半导体关键材料的科技创新型企业,主营业务为半导体掩模版的成功长率超研发、生产和销∴售,近3是年净国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商」,与国内主流大型特色工艺晶圆制造厂商、合增芯片设计公司有稳定合作关系。半导值得一提的体掩是,公司已掌握130nm及以上制程节点半导体㊣ 掩模版生产制造的模版关键技术,在半导体掩模版行业步入“国产替代”进程中发挥着引领作用。赛道上市

                分析认为,龙头龙图利复近年来随着新能源汽车、光伏发电、工业︾自动化等下游新兴产业推动,中国功率器件市场规模预计未来几年的年平均复合增□ 长率将达到11.58%,这将让国内半导体掩模版需求大幅增加。

                事实上,不论是“国产替代”大趋势下潜藏△的金矿,还是下游产业需求进一步提升,龙图光罩近几年的业绩已经呈现高速增〓长态势。招股书显示,2021年至2023年公司营业◎收入年均复合增长率为38.56%,其净利润的年均复合增长率更是超过了40%。

                稀缺独立第三方 业绩年均复合增长☉率40%

                在资本市场,是否具有独家稀缺性往往是衡量一家公司价◆值高低的重要参考值。7月26日启动申购的龙图光罩则在该指标上颇有话语权。

                招股书显示,龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售⌒。半导体掩模版主要用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领々域,终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。它的作用是将承载▓的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上,从而实现集成电路的批量化卐生产。

                值得注意的是,半导体掩模版行业高度依赖专有技术,具有鲜明的“Know-How”特点,进入门槛较高。具体而言,掩模版是上游芯片※设计公司与下游晶圆制造厂商的中间桥梁,这要求厂商既能快速理解并转换上游芯片设计要求,又要充分了解下游晶圆制造工艺需求,制作☆出适配下游光刻机的掩模版。

                据了解,目前半导体掩模版生产厂商∏可以分为晶圆厂自建配⊙套工厂和独立第三方掩膜厂商两大类,而对于28nm以上等较为成熟的制程所用的掩模版,芯片制造厂商为了降低成本,在满足技术要求下,更倾〖向于向独立第三方掩模版厂商进行采购。

                龙图光罩正是国内稀缺的独↘立第三方半№导体掩模版生产商,可以说是目前A股市场上唯一一家半导体掩模版收入占比超ω 过9成的公司。

                2021年—2023年,杏彩体育·(中国)官网登录龙图光罩的营业收入分别为1.13亿元、1.61亿元和2.18亿元,年均复合增长率为38.56%。而半导体掩模版则是龙图光】罩的主要收入来源,报告期内来自半导体掩模版的收入分别为8672.51万元、1.38亿元和1.98亿元,分别占主营业务收入的76.28%、85.44%和91.13%。

                2021年—2023年,公司归属于发行人股东的净利润分别为4116.42万元、6448.21万元及8360.87万元,净利润复合增长○率超40%,盈利能力显著提升。

                有迹象显示,这一高速增长态势也有望持续。

                近年来,受到新能源汽车、光伏发电、工业自动化、物联网等下游新兴产业的推动,以功率器件为★代表的特色工艺半导体发展迅速,不断进行产品迭代,为半导体掩模版行业创造了大量的市场需求。

                根据IBS的统计数据,以新能◤源汽车、光伏行业中的关键元件功率器件为例,2021年中国功率∮器件市场规模约为711亿元,预计到2025年市场规模将增长至1102亿元,年平均复合增长率11.58%。同时,国内主要特色工艺晶圆厂均在积▆极扩充产线,这将让国内半导体掩模版的配套需求大幅增加。

                以2024年■预计业绩为例,也透露出了积极增长信号。公司预计2024年1-6月营业收入约1.25亿元至1.3亿元左右,与上年同期相比ㄨ增长约21.17%至26.02%左右;预计2024年1-6月归属于母公司股东的净利润约4800万元至5000万元左右,与上年同◥期相比增长约19.41%至24.39%左右。

                研发费用率行业领先◥ 技术积累筑高门槛

                .行业前景具有蓝海特质,但也只有真正掌握技术优势的企业能够乘风№破浪。

                招股书显示,龙图光罩在高精度半导♂体掩模版领域持续进行设备引进与技术攻关,针对半导体掩模版的工艺特点,掌握了多项自主研发的核心技术,包括图形补偿技术、精准对→位标记技术、光刻制程管控技术、曝光精〒细化控制技术、缺陷修补与异物去除技术等,涵盖CAM、光刻、检测三大环节;同时,公司还¤积极开展技术布局与储备,储备了电子束光刻技术及PSM相移掩@模版技术,形成了一定的技术成果。

                目前,公司已经实现了130nm工艺节点半导体掩模版的量产,具备±20nm的CD精度和套刻精度,其技术实力和工艺能力在中国♀的第三方半导体掩模版厂〖商中居于领先地位。截至2023年12月31日,公司拥有发明专利16项,实用新型专利27项,计算机软件著作权36项。

                凭借强大的◥研发实力、持续的自主创新能力等,公司也获得了工信部专精↘特新“小巨人”企业认定、广东省功率半导体芯片掩模版♀工程技术研究中心认定、广东省专精特新中小企业认定、国家高新技术企业认定等。

                事实上,龙图光罩之所以能〇在技术上得到多重认可,源于其多年来对研□发的不遗余力。2021-2023年,龙图光罩在研发上分别投入了931.80万元、1533.31万元和2017.59万元,占营业收入的比例分别为8.20%、9.49%和9.24%。

                同期间,公司研发费用的年均复合增长率达到了47.15%,而与同行业上市公司相比,龙图光←罩的研发费用率也在较高水平。2021-2023年,公司的研发费用率分别为8.2%、9.49%、9.24%,而清▃溢光电、路维光电的研发费用率则分别为6.77%、5.87%、5.3%和4.66%、4.44%、5.24%。

                此外,龙图光罩研发中心的人才队伍从2021年末的26人也增长至2023年末的42人。其研发团队在半导体掩模版领域拥有丰▲富的技术经验和专业知识,具备高效的技术转化※能力。而为了々进一步提升研发实力,公司仍在不断吸引和培养优秀人才,积极与高校和科研院所开展合作,以实现技术创新和↓突破。

                稳定优质客户群助力未来发展

                资质稀缺、技术领先,也为龙图光罩带来了业绩增长的重要保障——稳定的大客户资▲源。

                据招股书,经过多年的发展,公司凭借其扎实的技术实力、优质的服务和可靠的产品质量,赢得了下游客户的广泛认可。公司已经与众多知名客户』建立了长期稳定的合作关系,并形成了优质的客户结构。这些客户不仅包括芯片制造厂商、MEMS传感器厂商、先进封⌒ 装厂商,还包括进行基础技术研究的知名高校及科∏研院所。

                同时,下游客户对半导体掩模版厂商的要求较高,认证周期也较长。因此,一旦与下游客户建立了合作关系,客〓户不会轻易更换供应商,形成了较∮强的客户黏性。公司的产品已经通过了多个◎国内知名晶圆制造厂商的认证,如中芯集成、士兰微、积塔半导体、新唐科技、比≡亚迪半导体、立昂微、燕东微、粤芯半导︾体、长飞先进、扬〓杰科技等。

                2021年—2023年,龙图光罩石英掩模版的产销率分别为99.77%、99.49%、99.82%;苏打掩模版的产销率分别为99.97%、100.11%、100.06%,漂亮数据的背后自然也有优质稳定的客户卐群的功劳。

                此外,产销率始终处于较高水╱平的同时,龙图光罩的主々要产品平均单价也在持续攀升,报告期内的平均单价同比增幅分别为28.10%、18.47%。同时,报告期内公司主营业务毛利率分别为59.73%、61.03%和58.87%,而同行业可比公司平均水平为31.01%、36.88%、35.53%。

                根据SEMI数据、CEMIA数据,作为半导体材料的重▂要组成部分,掩模版占半█导体材料市场规模的比例约为12%,仅次于硅片和电子特气,2023年全球半导体掩模版市↑场规模为95.28亿美元,2023年中国半导体掩模版的市场规模约为17.78亿美元。未来随着半导体行业容量的持续上升,半导体掩模版市场规模将不断提升。

                通过本次上市,龙图光罩将持々续加大技术创新投入,本次拟募集资金6.63亿元,将直接用于电子束光刻机等一系列高端设备购置及产线建设,推动90nm、65nm及更高制程节点半导体掩模版的技术突破,补强产@ 业发展短板,提升自主可控水平。

                (本文不构成任何投资建议,信息披露内容以公司公告为准。投资者据此操作,风险自担。)

                 


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